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產(chǎn)品展示

納克光譜儀

簡要描述:納克公司光譜儀適用于Fe基產(chǎn)品領域的生產(chǎn)過程控制,中心實驗室成品檢驗等樣品分析,廣泛應用于冶金、鑄造、機械、金屬加工、汽車制造、航空航天、兵器、等領域的生產(chǎn)過程控制。

  • 產(chǎn)品型號:LAB SPAKR 750B
  • 廠商性質:生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2025-07-17
  • 訪  問  量:3540
詳情介紹

一、納克光譜儀儀器介紹:      

納克光譜儀廣泛應用于冶金、鑄造、機械、金屬加工、汽車制造、航空航天、兵器、等領域的生產(chǎn)過程控制,中心實驗室成品檢驗等,可用于Fe基金屬及其合金樣品分析??蓪ζ瑺?、塊狀以及棒狀的固體樣品中的非金屬元素(C、P、S、B等)以及金屬元素進行準確定量分析,分析結果準確,分析精度高。儀器日常維護簡單,運行成本低,故障率低。

 二、技術參數(shù):

1.焦距:750mm

2.譜線范圍:120-800nm

3.高能預火花光源,激發(fā)頻率:300-1000Hz

4.帕邢-龍格架構法,真空光學系統(tǒng)

5.光電倍增管檢測器

6.光柵刻線:2400條/mm

7.工作環(huán)境:溫度10-40℃濕度<80%

8.電源:220V 16A 2.5KVA

9.重量:350Kg

10.儀器尺寸:長105×深85×高120cm

11.整體出射狹縫,預留240條

三、儀器特點:    

激發(fā)能量、頻率連續(xù)可調全數(shù)字固態(tài)光源,適應各種不同材料

原位單次放電采集的技術(SDA)有效提高分析精度

可變延時積分技術,大大降低背景干擾

高精度光電倍增管負高壓獨立供電連續(xù)可調技術,調整更精確,可程序調整,提高動態(tài)范圍

單板式透鏡架,擦拭時大大降低對光室的污染

基于ARM9的儀器狀態(tài)實時監(jiān)控系統(tǒng)

USB采集,通用性更強

固態(tài)吸附阱,防止油氣對光室的污染,提高長期運行穩(wěn)定性

綠光背景燈,加快響應速度,提高短期分析精度

銅火花臺底座,提高散熱性及堅固性能

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